先端計測実験棟・大実験室内
クリーンルーム

概要

先端計測実験棟の大実験室内に設置されているクリーンルームは、２００７年から建設が始まりました。２００８年11月には、シリコンやサファイアのウェハ上に薄膜を作製するために、スパッター、ドライエッチング装置、蒸着装置などのプロセス装置群が理化学研究所から移設されました。クリーンルームは、クラス１０万とクラス1万の２つの部屋に分けられています。クラス10万の部屋は、大学などの研究者が使用できる共同利用のためのスペースも用意してあり、クラス1万の部屋では、プロセス装置群を使用して超伝導トンネル素子などを製作することができます。特に、３Ｋ宇宙背景輻射の偏光観測に使用するアルミの超伝導トンネル素子などを開発製作してゆく予定です。

クラス10万室　（温度21℃・湿度50%、変更可）

クリーンルーム入り口から見たクラス１０万室。この部屋では、ワイヤーボンディング作業もできますが、大学などに共同利用のためのスペース（5m×5m)も用意されています。また左奥に入り口が見えるクラス１万室に入室するための前室にもなっています。今後、３Ｋ宇宙背景輻射の偏光観測グループの低温実験やミリ波テスト実験も行われる予定です。

室内で使用可能なもの。

ワイヤーボンダー　１台（使用には担当者と相談が必要です。）
光学顕微鏡　２台（ボンディングの確認用。）
乾燥窒素　（室内に３ヶ所取り出し口がある。）
圧縮空気　（室内に３ヶ所取り出し口がある。）
100Vコンセント
Ethernetコンセント　６口
NW25, NW40排気ポート各１口　（真空ポンプを室外に設置するとき使用。）
ダイシングソー　１台（2008年度中に設置予定。８インチウェハを切断可。）

右端がワイヤーボンダーで左２台が光学顕微鏡。

クラス１万室、クラス1000室（イエロールーム）　（温度21℃、湿度50%、変更可）

クラス１万室に設置されているプロセス装置群

以下のスパッター、マスクアライナー、ドライエッチング装置を順番に使用し、その工程を何度か繰り返し何層かの薄膜を作成することで素子ができてきます。スパッターで、基板に薄膜を作成し、その上に感光物質であるフォトレジストを塗り、マスクアライナーで露光し、フォトマスクに描かれた素子のパターンを転写します。その後現像し、ドライエッチング装置により、フォトレジストがない部分は削られて薄膜にパターンが形成されます。、

(1)金属膜スパッター　（SP-M)

ニオブ, アルミ, タンタルなどの金属膜をスパッターできます。アルミをスパッターした後ロードロック室から取り出さずにアルミ酸化物をスパッターすることが可能。